☆マイクロビーム工学特論（Science and Technology of Microbeams）[4502]

＜授業のねらい及び具体的な到達目標＞

マイクロビーム工学の守備範囲は非常に広い。それを理解・活用するために必要な基礎的学習として，電子・イオンの発生，ビーム形成，荷電粒子の真空電磁界中の挙動とエネルギー輸送，荷電粒子と固体表面との相互作用等が挙げられる。それらを相互に関連させて学習・議論することを本特論での目標とする。次に、多彩なビーム応用装置について議論する。特に、装置性能向上に重要な役割を果たしているディジタル画像・信号処理技術についても取り上げる。

＜授業計画及び準備学習＞

１) イントロダクション、電子・イオンの発生，粒子性・波動性
２) 電子銃、電子の発生機構
３) 電界・磁界中における荷電粒子の運動
４) 静電偏向，電磁偏向、静電レンズ，磁界レンズ
５) ビームの形成
６) 荷電粒子ビームと固体表面の相互作用
７) 各種信号の検出と増幅
８) 荷電粒子によるエネルギー輸送
９) 電子線による損傷・帯電・汚染，外乱
10) 高分解能走査電子顕微鏡、高分解能電子線測長装置
11) 可変圧力走査電子顕微鏡、イオンビーム装置
12) 電子ビーム露光・描画技術
13) 電子ビームテスタ
14) ビーム応用分野におけるディジタル画像・信号処理
15) 学習成果の確認（試験）

＜成績評価方法及び水準＞

学習内容の理解度を確認する目的で基礎的な試験を行う（60点以上合格）。例年、本人の直筆ノートや配付資料などを持ち込み可としている。

＜教科書＞

プリント，文献等を配布する。

＜参考書＞

新・走査電子顕微鏡（日本顕微鏡学会関東支部編、共立出版）

＜オフィスアワー＞

月曜日17:00〜17:40　A-1571