2010年度工学院大学大学院・電気・電子工学専攻
薄膜評価技術特論(Thin Film Evoluation Technology)[2505]
2単位 鷹野 一朗 教授 [ 教員業績 JP EN ]
- <授業のねらい及び具体的な達成目標>
- 薄膜を実際に応用するにはその性質を充分に知っておかなければならない。そのためには薄膜の構造や組成等の重要なパラメータを制御する方法とその測定方法を理解する必要がある。さらに薄膜の各種機能発現の原理を理解すると共にその評価方法について考える。
- <授業計画及び準備学習>
- 1) 各種ドライプロセスによる薄膜作製法と形成膜の特徴
2) 膜厚の定義と測定方法(光干渉法,触針法,レーザー法等) 3) 化合物薄膜の組成及び構造 4) 薄膜組成及び構造の各種分析方法(XPS,XRD等) 5) 薄膜と基板との付着力,内部応力,硬さ等の機械的特性測定方法と実用薄膜 (TiN,DLC膜等) 6) 電気的性質(導電体・絶縁体・半導体薄膜の測定法) 7)不連続薄膜における電気伝導現象(熱電子放出モデル等の各種モデル) 8) 連続薄膜における電気現象(サイズ効果,抵抗温度係数,絶縁耐圧等)とその測定方法 9) 磁気的性質とその測定方法及び磁気センサや磁気抵抗素子等への応用 10) 化学的性質とその測定方法(直流法,交流インピーダンス法等) 11) 光学的性質とその測定方法(光起電力,光電導性,光透過性等) 12) 薄膜の評価に関する論文発表(1) 13) 薄膜の評価に関する論文発表(2) 14) 薄膜の評価に関する論文発表(3) 15)学習の評価
- <成績評価方法及び水準>
- 授業での演習と発表(40%)と期末試験(60%)によって評価します。
- <教科書>
- プリントを配布します。
- <オフィスアワー>
- <前期> 八王子校舎「火、水、金、土」 新宿校舎「月、木」
<後期> 八王子校舎「火、水、金、土」 新宿校舎「月、木」 (会議、出張等により変更になる場合がありますので,メールで確認してください)
- <学生へのメッセージ>
- 薄膜は様々ところで応用され、求められる機能も多種多様になります。従って、それらの評価方法も多岐に渡りますので、自学科に関連するだけの狭い領域ではなく学際的な幅広い知識を身につけてください。
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