2009年度工学院大学大学院・電気・電子工学専攻
マイクロビーム応用工学特論(Microbeam Technology)[1603]
2単位 於保 英作 教授 [ 教員業績 JP EN ]
- <授業のねらい及び具体的な達成目標>
- マイクロ・ビームを応用した装置は,陰極線管に始まり,各種電子顕微鏡,電子・イオンビームリソグラフィー(露光,描画技術),集束イオンビーム装置,電子ビームテスタ,イオンビーム蒸着装置,各種計測・分析装置等多彩である。また,どの装置においてもディジタル画像・信号処理技術のウエイトが高まっているのも特筆に値する。本特論では,上記装置・技術の工学分野への応用・問題点等に関して適切な文献等を取り上げ議論する。
- <授業計画>
- 1) 高分解能走査電子顕微鏡
2) 高分解能電子線測長装置 3) 環境制御型走査電子顕微鏡,可変圧力走査電子顕微鏡 4) 電子ビーム露光・描画技術1 5) 電子ビーム露光・描画技術2 6) イオンビームエッチング,集束イオンビーム加工 7) 電子・イオンビーム蒸着 8) 電子ビームテスタ1 9) 電子ビームテスタ2 10) 電子ビーム加工・溶接・溶融・分解(大電力) 11) 透過電子顕微鏡 12) 電子ビームを用いた各種計測法 13) ビーム応用分野におけるディジタル画像・信号処理
- <成績評価方法及び水準>
- 学習内容の理解度を確認するために試験を行う(60点以上合格)。例年、本人の直筆ノートを持ち込み可としている。
- <教科書>
- プリント,文献等を配布する。
電子顕微鏡技術(MARUZEN Advanced Technology,電子・情報・通信編)
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