| 2012年度工学院大学 第1部 *情報工学科
 
 電子デバイスII(Fundamentals of Semiconductor Devices II)[3A76] 0単位
 吉川 明彦 非常勤講師
 
 
 
<授業のねらい及び具体的な達成目標>
  電子デバイスはIT社会を担う基本素子である。本講義では電子デバイス工学-Iに続いて、撮像デバイスに使われているCCD、USB メモリやデジカメのSD cardに使われているフラッシュメモリ、磁気を使ったHDD (Hard Disc Drive)、レーザ光を読み出しや書き込みに使うCD、DVD、 マンマシーンインターフェースである液晶ディスプレイ、通信に使われているHEMTやHBTなどのマイクロ波デバイス、光ファイバー通信用レーザ・ダイオード、発光ダイオード、これらのデバイスに不可欠なIII-V族化合物半導体、更に太陽電池の原理、集積回路の概念と構造ついて学ぶ。
<授業計画及び準備学習>
  準備学習について:毎週の講義に対応する講義資料をダウンロードして、講義の予習・復習に当てること
 
 第1週 電子デバイス工学-Iの復習
 第2週 電荷結合デバイス(CCD)
 Deep Depletion、構造と動作、界面準位と埋め込みチャンネル
 第3週 撮像デバイス(イメージセンサー)
 CCDイメージセンサーの作り方と構成、
 CMOSイメージセンサーとの比較
 第4週 メモリ:MOSメモリ
 メモリの構成、DRAM, SRAM, ROM, 不揮発性メモリ
 第5週 メモリ:磁気記録と光記録
 動作原理、テープレコーダ、HDD、
 CD、DVD(追記型、書き換え可能型)
 第6週 ディスプレイ-I
 ディスプレイの種類;CRT(ブラウン管)、LCD、PDP、有機EL
 第7週 ディスプレイ-II --- LCD(Liquid Crystal Display)
 動作原理、モジュールの構造、液晶とは、分子と光の相互作用。
 第8週 ディスプレイ-III --- PDP、有機EL
 動作原理、構造と作り方
 第9週 マイクロ波の基礎知識 + 中間試験
 dB表示、特性インピーダンス、
 第10週 III-V族化合物半導体
 特徴、バンド構造、混晶半導体、ヘテロ接合
 第11週 ヘテロ接合を用いたマイクロ波デバイス
 ヘテロ接合バイポーラ・トランジスタ
 変調ドープFET
 第12週 光デバイスI
 発光遷移と光吸収、発光ダイオード
 第13週 光デバイスII
 レーザ・ダイオード、光検出器、太陽電池
 第14週 集積回路(IC)の概念と構成
 第15週 期末試験
 
<成績評価方法及び水準>
  中間(40%)及び期末テスト(60%)の結果による。試験では教科書、ノートの持ち込み不可。BとC、CとDの境界については、出席点を考慮する。
<教科書>
  「電子デバイスの基礎と応用」長谷川文夫・本田 徹 共著(産業図書:2940円)
<参考書>
  「半導体デバイス第2版--基礎理論とプロセス技術--」 S.M.ジー著、南日、川辺、長谷川訳(産業図書:6600円)
<オフィスアワー>
   講義後講師室で。 
<学生へのメッセージ>
  説明やpptが分からなければその場で説明を求め、質問すること。質問がない場合は指名してこちらから質問する。
   
 
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