電気・電子材料ＩＩ（Electric & Electronic Materials II）[5E13]

＜授業のねらい及び具体的な達成目標＞

「電気・電子材料Ｉ」における材料の基礎を学んだことを前提として、材料開発を支えている薄膜化技術、材料評価技術の基礎を学ぶとともに、情報化社会で重要な位置を占めているファイル材料を中心に先端的ファイルディバイス開発の現状を学ぶ。
授業のねらい
(１)薄膜形成技術を理解しその応用分野の知識を習得する(２)材料の結晶構造や化学的特性の評価法を理解する(３)ハードディスクや半導体メモリの動作原理を理解する。

＜授業計画＞

１． 薄膜形成技術(１)、真空蒸着法。
２． 薄膜形成技術(２)、スパッタリング法、薄膜成長機構。
３． 薄膜微細加工技術
４． 材料評価技術(１)、Ｘ線回折法、電子顕微鏡。
５． 材料評価技術(２)、表面構造解析法。
６． 材料評価技術(３)、化学組成分析法。
７． 情報ファイル材料総論、磁気記録・記憶材料。
８． 磁気センシング材料、磁気抵抗効果素子など。
９． 磁気記録機構、原理と実際、
１０． 光記録材料、
１１． 光磁気記録、相変化記録の原理。
１２． 不揮発性半導体メモリ材料
１３． 情報記憶素子の将来動向
１４． 定期試験

＜成績評価方法及び水準＞

原則として定期試験で最終成績を評価、60点以上を合格とする。ただし、試験の点数が僅かに60点未満の場合はレポート提出を認め、レポート内容が単位認定相当と判断される場合には最終成績を６０点とする。

＜教科書＞

授業において資料を配布する。

＜参考書＞

電気電子材料工学（電気学会）　櫻井良文　他，薄膜の基本技術（東京大学出版会）　金原粲

＜オフィスアワー＞

水曜日　16:00〜17:00：前もって連絡ください。

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